谁能够掌握光刻机的相关制造技术,谁就能够掌控芯片产业未来的发展方向。
谁也就掌握了未来科技领域的核心命脉。
光刻机的研发涉及众多复杂的技术门类。
像系统集成技术、精密光学技术、精密运动控制技术、精密物料传输技术、高精度微环境控制技术等,都是其中不可或缺的先进技术。
它是所有半导体制造设备中技术含量最高、研发难度最大的设备。
至于研发难度方面,我就不再过多赘述了,相信在场各位对此都有一定的了解。
就算是不太了解的人,应该也或多或少听说过它的研发难度之大。
目前我已经成功攻克了光刻机相关的上千个关键技术难题。
仅仅是这些已经攻克的技术,就足以支撑起上百个相关产业的发展。
还能够催生上千家专业技术工厂的建立。
要制造光刻机,首先需要准备好各类核心组件。
其中包括光源设备、精密镜头、工作台、浸没系统等关键部件。
其次还需要配备光刻机的相关配套设施。
这其中涵盖了光刻胶、光掩模版、涂胶显影设备等一系列辅助产品。
我也将光刻机称为掩膜对准曝光机。
它采用的是类似照片冲印的技术原理。
通过光线曝光的方式,将掩模版上的精细图形精确印制到硅片之上。
但这一步骤看似简单,实际操作的难度却远超照片冲印技术的百万倍、千万倍。
赵卫国就这样滔滔不绝地讲解了足足一个多小时。
期间他甚至直接走到考场的黑板前,拿起粉笔。
在黑板上写下了大量光刻机技术的核心要点,以及一些关键技术参数。
这个考场原本是一间大型教室,配备了巨大的黑板和常用的粉笔。
这也为赵卫国接下来的讲解提供了便利条件。
文字说明与口头讲解相互配合,让所讲的内容更加清晰易懂。
对于赵卫国来说,他此次前来并非单纯为了参加考核。
他的真实目的,是为了到种花家科技院挖掘顶尖技术人才。
种花家科技院早就已经启动了芯片制造相关的研究工作。
赵卫国知道,这里汇聚了众多该领域的顶尖人才。